离子注入机

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采购标的名称：离子注入机 采购标的需实现的主要功能或者目标：提供向半导体材料注入离子来改变其电学性质 采购标的数量：1套 采购标的需满足的质量： 1. 晶圆尺寸：8″、6″、4″、3″及不规则小片 2. 注入元素：P+、B+、Al+、N+等，（配置五个气路MFC，在此基础上可扩展F+ 、Si+ 、Mg+、 H+等元素） 3. 注入能量范围：10KeV ～ 380KeV（单价） 4. 注入角度：0°～45°，角度精度：≤0.2° 5. 最大束流（不扫开束流）：B+：≥1200μA；P+：≥2000μA；N+：≥2000μA；Al+：≥2000μA 6. 束流稳定性：变化率≤10%（20min） 7. 剂量范围：2E11～1E16 ions/ cm2 8. 本底真空度：Ion Source：≤5E-7Torr；Beam Line：≤5E-7Torr；End Station：≤5E-6Torr； 9. X射线泄漏值≤0.5μSv/h 10. 注入均匀性：1σ≤1%（P+、1E14、100KeV、8″硅晶圆、倾角7°） 11. 注入重复性：1σ≤1%（P+、1E14、100KeV、8″硅晶圆、倾角7°） 12. 扫描方式：水平静电扫描+垂直机械扫描 13. 传片方式：4靶位手动装卸片,每个靶位的角度可独立自动调整 服务：电话支持:7x8小时;质保期:1年;原厂全新未拆封正品; 时限：签约后8个月内到货